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微纳形变光学：结构制备与光场调控
报告简介：
纳米精度的三维制造技术是当代光电子学和微纳光子学发展的重要基础。传统的三维微纳制造技术，如自下而上（bottom-up）、自下而上（top-down）、自组装等方法，遵循的是一种线性序列，通常采用逐层叠加二维平面来构建三维空间，结构的复杂度、分辨率和制备成本很难同时兼顾。我们借鉴传统剪纸形变原理，结合现代纳米加工工艺，采用“二维刻线+三维形变自成型”方法，发展出纳米尺度的片上、原位、立体形变加工技术。该技术既不同于增材制造，也不同于减材制造，突破了传统自下而上、自上而下、自组装等纳米加工方法在几何形貌方面的局限，成为一种快速、新型的三维微纳形变制造方法，为微纳光子学的发展提供了一种新的技术途径。本报告将介绍研究团队在微纳形变结构创新设计、精密制造与光场调控等方面的研究进展，有望为动态调控光学超表面、新型微纳光机电器件、光学操控微纳机器人等领域提供新颖的物理机制和调控方法。
报告人简介：
李家方
北京理工大学特聘教授，国家杰青、国家青年拔尖人才。自2005年开始一直从事人工微纳结构中光与物质的相互作用研究，并致力于发展纳米剪纸、飞秒激光直写等三维微纳加工技术与应用。针对三维纳米制造难题，另辟蹊径，2018年在国际上首次实现纳米剪纸三维微纳制造技术，2021年提出纳米形变光机电动态调控新机制，2024年实现纳米剪纸微型转子光电镊自由操控，2025年突破硅基纳米剪纸技术。相关工作在Nat. Nanotechnol., Sci. Adv., Nat. Commun., Light, Adv. Mater.等顶级期刊上发表论文100余篇，被中央电视台CCTV1/CCTV13、新华网、Science Daily、MIT News 等专门报导，承担基金委、科技部、北京市、广东省、中国科学院项目/课题十余项，做国际学术会议邀请报告二十余次。担任中国光学工程学会微纳专委会委员、中国物理学会应用物理前沿推介委员会委员、《激光与光电子学进展》编委，《半导体学报》（英文版）和中国激光杂志社青年编委。
